KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100 -

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KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

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张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

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产品介绍

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料

KrF深紫外光刻胶系列

Kind 型号	Performance 性能	Application 应用
DK1081	R:0.18μm,Thickness range:0.4um-0.8μm	AA/Poly/CT
DK1080	R:0.25μm,Thickness range:0.55μm-1.0μm	Implant/AA/CT
DK1088	R:0.25μm,Thickness range:0.8μm-1.4μm	TV/TM/Implant
DK1089	R:0.25μm,Thickness range:0.8μm-1.4μm	TV/TM/Implant
DK1087	R:1μm,Thickness range:3-4μm	Special application/ PAD
DK2060	R:0.25μm,Thickness:0.55-0.8μm	Contact/Hole
DK3030	R:0.25μm,Thickness:0.6-0.8μm	AA/Metal/Contact/Hole
DKN1100	Krf Negative PR R:0.20μm,Thickness:0.4-0.8μm	SAB/Implant

类别：一类光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研

400-6966-012