集成电路用光刻胶：RD-4000、RD-6000等系列 -

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集成电路用光刻胶：RD-4000、RD-6000等系列

集成电路用光刻胶系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列

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张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

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产品介绍

集成电路用光刻胶

1.应用领域:

集成电路领域的具体应用包括：集成电路芯片制作（涉及金属层、钝化层、离子注入层的光刻）；集成电路**封装等。

2.技术参数:

集成电路用光刻胶主要技术参数：

集成电路用光刻胶系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列，不同系列光刻胶的主要技术参数如下：

序号

产品序列

主要参数

RD-4000系列

水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)

RD-6000系列

水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)

400-6966-012