半导体照明用光刻胶 RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列 -

您当前所在位置：首页 > 功能化学 > 发光材料 > 功能性发光材料 > 光刻胶系列 > 半导体照明用光刻胶 RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列

半导体照明用光刻胶 RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列

半导体照明用光刻胶，半导体照明用光刻胶系列主要包括：RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列

快速订购/大包装咨询

张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

如该产品产生售后问题，请联系我们：

产品介绍

半导体照明用光刻胶

1..应用领域:

半导体照明领域的具体应用包括：图案化蓝宝石衬底（PSS）制作；LED芯片制作等。

2.技术参数:

半导体照明用光刻胶主要技术参数：

半导体照明用光刻胶系列主要包括：RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列，不同系列光刻胶的主要技术参数如下：

序号	产品序列	主要参数
1	RD-2000系列	水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<300；膜厚：1.0~3.5um；分辨率：0.8um(g-line)
2	RD-4000系列	水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
3	RD-6000系列	水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
4	RD-NL700系列	水分：<0.5%；颗粒(0.5um颗粒，个/ml)：<100；痕量金属(K、Na、Fe，ppb）：<500；膜厚：1.8~4.5um；倒梯形角度：45~80°；分辨率：1um(g+h+i曝光)

400-6966-012