光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。

可根据要求定制薄膜厚度：

UVN ™ 2300 series, Negative Photoresists ,  UVN ™ 2300系列负性光刻胶

XR-1541 E-Beam Resist , Negative Photoresists ,  负性光刻胶

SU-8 series, Negative Photoresists ,SU-8系列负性光刻胶

SU-8 2000 series , Negative Photoresists , SU-8系列负性光刻胶

SU-8 3000 series,  Negative Photoresists , SU-8系列负性光刻胶

SU-8 TF 6000 series , Negative Photoresists , SU-8系列负性光刻胶

KMPR® 1000 series , Negative Photoresists 系列负性光刻胶

PermiNex® 1000 series , Negative Photoresists 系列负性光刻胶

PermiNex® 2000 series , Negative Photoresists 负性光刻胶

KMSF® 1000 Dielectric , Materials

PMMA / Copolymer series,  Positive Photoresists 正性光刻胶

LOR / PMGI series

类别：一类光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研