ma-P 1200G 系列正性光刻胶蚀刻掩模、电镀模具 -

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ma-P 1200G 系列正性光刻胶蚀刻掩模、电镀模具

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张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

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产品介绍

光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成

可根据要求定制薄膜厚度：

mr-I 9000M 系列纳米压印抗蚀剂

ma-N 1400 系列负性光刻胶

ma-N 400 系列负性光刻胶 PVD 和剥离

ma-N 2400 系列负性光刻胶干蚀刻掩模

mr-DWL系列负性光刻胶母带/微光学

EpoCore & EpoClad 系列负性光刻胶波导

mr-EBL 6000 系列负性光刻胶干蚀刻掩模

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ma-P 1200 系列 / ma-P 1275HV 正性光刻胶蚀刻掩模、电镀模具

mr-P 1200LIL 系列正性光刻胶干蚀刻掩模

InkEpo 系列负性光刻胶喷墨材料

类别：光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研

400-6966-012