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mr-EBL 6000 系列负性光刻胶 干蚀刻掩模

mr-EBL 6000 系列负性光刻胶 干蚀刻掩模

货号 规格 数量 价格
Q-0101403 100mg
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业务范围:AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
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产品介绍

光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成

可根据要求定制薄膜厚度:

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类别:光刻胶
供应商:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研

参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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