lift-off工艺光刻胶AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400
光刻胶推荐：AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400等
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101300 | 100mg |
1
|
询价 |
| Q-0101300 | 250mg |
1
|
询价 |
| Q-0101300 | 500mg |
1
|
询价 |
| Q-0101300 | 1g |
1
|
询价 |
| Q-0101300 | 5g |
1
|
询价 |
快速订购/大包装咨询
张惠宁销售经理
17778955912
1521565887
业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
如该产品产生售后问题，请联系我们：
1521565887@qq.com产品介绍
lift-off工艺
溶脱剥离法（lift-off）是微纳加工中应用到的最普遍的图形转移技术之一。其基本原理是由光学或电子束曝光**形成光刻胶的图形，在薄膜沉积之后将光刻胶用除胶剂等溶解清除，凡是没有被光刻胶覆盖的区域都留下了金属薄膜，实现了由光刻胶图形向金属薄膜图形的转移。
光刻胶推荐：AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400等
| 参数信息 | |
|---|---|
| 外观状态： | 固体或粉末 |
| 质量指标： | 95%+ |
| 溶解条件： | 有机溶剂/水 |
| CAS号： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 储存条件： | -20℃避光保存 |
| 储存时间： | 1年 |
| 运输条件： | 室温2周 |
| 生产厂家： | 西安齐岳生物科技有限公司 |
相关产品
-
KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100
-
DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列
-
光刻胶推荐： AR-N 4340，AR-N 4400，AR-N 7700等
-
TFT-LCD光刻胶
官方微信
官方微博