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n-ZnO/p-Si异质结
发布时间:2024-04-23     作者:zhn   分享到:

产品名称: 

n-ZnO/p-Si异质结

描述:   

n-ZnO/p-Si异质结指的是n型氧化锌(n-ZnO)与p型硅(p-Si)两种半导体材料形成的异质结。这种异质结在光电器件、传感器、光伏器件等领域具有重要的应用,因为它结合了氧化锌的光电性能和硅的广泛应用基础。

制备n-ZnO/p-Si异质结可能涉及以下步骤:

  1. 氧化锌薄膜生长:采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等方法,在硅基底上生长n型氧化锌薄膜。

  2. 硅基底制备:对p型硅基底进行表面处理和清洗,以保证良好的接触和结合。

  3. 界面结合:将生长好的n-ZnO薄膜与p-Si基底形成界面结合,通常通过热处理或压力处理等方式实现。

  4. 器件制备:设计和制备具有特定功能的器件,如光电探测器、光伏电池等。

配送:惯例下常温**

包装:盒装

厂家:西安齐岳生物科技有限公司 

种类:异质结

温馨提示:仅用于科研

异质结

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