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graphene/多孔Si异质结,石墨烯-硒化镉纳米带异质结 定制合成
发布时间:2024-04-23     作者:zhn   分享到:

产品名称:

graphene/多孔Si异质结,石墨烯-硒化镉纳米带异质结

描述: 

Graphene/多孔Si异质结是指由石墨烯(Graphene)和多孔硅(Porous Silicon,简称Si)两种材料组成的异质结。这种异质结具有独特的光学、电学和力学性质,在光电器件、传感器、储能器件等领域有着广泛的应用潜力。

制备Graphene/多孔Si异质结可能包括以下几个步骤:

  1. 多孔硅制备:通过化学腐蚀或者电化学腐蚀等方法制备多孔硅材料,控制其孔径和孔隙结构。

  2. 石墨烯制备:采用化学气相沉积(CVD)、机械剥离法等制备石墨烯单层或多层片,确保其质量和结构完整性。

  3. 界面结合:将石墨烯与多孔硅进行界面结合,可以采用物理吸附、化学修饰等方法实现。

  4. 性能表征:对制备的Graphene/多孔Si异质结进行结构、形貌和性能的表征,包括光学性能、电学性能等。

这种异质结的制备涉及到多个步骤和技术,需要综合考虑材料合成、结构表征、性能测试等方面的工作。

配送:惯例下常温**

包装:盒装

厂家:西安齐岳生物科技有限公司 

种类:异质结

温馨提示:仅用于科研

异质结

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