WS2/hBN 异质结

蓝宝石基底

PET基底

石英基底

SiO2/Si基底

描述： 对于WS2/hBN异质结在不同基底上的定制，您可以考虑以下方面：

1. 蓝宝石基底：蓝宝石基底具有光学性能和化学稳定性，适合用于光电器件和光学器件的制备。在蓝宝石基底上制备WS2/hBN异质结需要考虑到材料的生长方法、晶体质量和界面特性。

2. PET基底：PET基底是一种柔性基底，适合用于柔性电子器件和可穿戴设备。在PET基底上制备WS2/hBN异质结需要考虑到膜的柔性性能和稳定性，以及生长过程中对基底的影响。

3. 石英基底：石英基底具有良好的化学稳定性和机械性能，适合用于微纳米器件的制备。在石英基底上制备WS2/hBN异质结需要考虑到生长条件、晶体质量和界面特性。

4. SiO2/Si基底：SiO2/Si基底是常见的硅基底，用于集成电路和传感器等器件的制备。在SiO2/Si基底上制备WS2/hBN异质结需要考虑到晶体生长、界面质量和器件性能。

针对不同基底的特性和应用需求，可以选择适合的生长方法（如化学气相沉积、物理气相沉积、机械剥离等）、工艺参数和后续处理工艺，以获得WS2/hBN异质结薄膜

说明：可以根据需要定制不同层数和结构的异质结材料

配送：惯例下常温**

包装：盒装

厂家：西安齐岳生物科技有限公司 

种类：异质结

温馨提示：仅用于科研

同系列： 

MoS2/WS2/MoS2/WS2异质结

蓝宝石基底

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石英基底

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石英基底

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