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巯基化二氧化硅包四氧化三铁(50nm,5mg/ml)
发布时间:2024-04-17     作者:wqy   分享到:

巯基化二氧化硅包四氧化三铁(50nm,5mg/ml)

巯基化二氧化硅包覆四氧化三铁是一种纳米材料制备技术,结合了四氧化三铁(Fe₃O₄)的磁性和二氧化硅(SiO₂)的稳定性及光学性质。四氧化三铁具有超顺磁性,在磁记录、磁传感器和磁医学等领域有广泛应用。而二氧化硅的包覆可以增强四氧化三铁的磁性性能和稳定性,同时改变其光学性质,使其在光学传感器、光学存储和光学显示等领域具有潜在应用。

巯基化二氧化硅包覆四氧化三铁的制备过程通常包括以下步骤:首先,通过溶剂热法制备出磁性四氧化三铁颗粒;然后,使用硅烷交联剂作为硅源,利用溶胶-凝胶法将生成的二氧化硅包覆在四氧化三铁颗粒的表面;接着,为了引入巯基官能团,可以选择合适的硅烷偶联剂对载体的表面进行功能化修饰,得到巯基功能化的磁性二氧化硅纳米材料。

巯基化二氧化硅包四氧化三铁(50nm,5mg/ml)

厂家:西安齐岳生物科技有限公司

用途:科研

状态:固体/粉末/溶液

产地:西安

保存:冷藏

温馨提醒:仅供科研,不能用于人体实验


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