1分钟了解CVD法制备石墨烯（铜箔衬底）的制备过程

西安齐岳生物科技有限公司提供铜基石墨烯采用化学气相沉积法（CVD），在超高纯铜箔表面通过高温化学反应，沉积不同原子层厚度的石墨烯薄膜。经加工后可应用于不同的应用产品上，本文主要介绍一下CVD法制备的工艺流程。

CVD生长石墨烯主要包括两个路径，一个路径是“直接生长”，催化裂解出来的碳原子直接在催化剂表面成核、进而生长成石墨烯薄膜；

另一个路径则是“迂回生长”，催化裂解的表面碳原子渗透进入体相溶解后，再在表面析出，成核生长形成石墨烯薄膜。两个平行生长路径的贡献，取决于金属催化剂的溶碳能力、金属碳化物的生成及其在生长温度下的化学稳定性。

CVD法制备石墨烯的基本过程是：

把基底金属箔片放入炉中，通入氢气和氩气或者氮气保护加热至1000℃左右，稳定温度，保持20min左右；然后停止通入保护气体，改通入碳源（如甲烷）气体，大约30min，反应完成；切断电源，关闭甲烷气体，再通入保护气体排净甲烷气体，在保护气体的环境下直至管子冷却到室温，取出金属箔片，得到金属箔片上的石墨烯。下图为石墨烯的制备过程。

衬底是生长石墨烯的重要条件。目前发现的可以用作石墨烯制备的衬底金属有8～10个过渡金属（如Fe，Ru，Co，Rh，Ir，Ni，Pd，Pt，Cu，Au），和合金（如Co-Ni，Au-Ni，Ni-Mo，不锈钢）。过渡金属在石墨烯的CVD生长过程中既作为生长基底，也起催化作用。

提供一种以铜箔上石墨烯的生长为例生长石墨烯薄膜的过程，主要包括以下三个步骤：

西安齐岳生物提供多种基底石墨烯定制化服务

(1)层数可定制：

实现单层、双层、多层等**石墨烯定制合成服务

(2) 多种基底石墨烯定制化服务：

为客户提供多种基底石墨烯，如 PDMS、玻璃、石英、云母、硅片、二氧化硅等石墨烯转移服务。

(3) 特殊方法石墨烯定制化服务：如掺杂石墨烯、SiC超高载流子迁移率石墨烯定制化服务。

多种基底转移石墨烯

石墨烯  单层CVD石墨烯 (石英基底) 1cm*2cm

石墨烯 CVD铜基单层石墨烯(10cm*10cm)

石墨烯 CVD铜基单层石墨烯(10cm*20cm)

石墨烯 单层CVD石墨烯 (硅/二氧化硅基底) 1cm*2cm

石墨烯 单层CVD石墨烯 (硅/二氧化硅基底) 2cm*2cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--PET基底1cm*1cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--PET基底2cm*2cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--Si/SiO2基底 (1cm*1cm)

石墨烯 单层CVD石墨烯--玻璃基底1cm*1cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--玻璃基底1cm*2cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--玻璃基底2cm*2cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--蓝宝石基底1cm*1cm

石墨烯 单层CVD石墨烯--石英基底1cm*1cm

石墨烯 硅片基底石墨烯膜Graphene on Si （尺寸定制）

石墨烯 铜基单层石墨烯-5cm*10cm

石墨烯 铜基多层石墨烯 5cm*10cm

石墨烯 铜基多层石墨烯 10cm*20cm

石墨烯 铜基多层石墨烯10cm*10cm

石墨烯，镍基多层石墨烯薄膜 （5cm*10cm）

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜

硅基底石墨烯薄膜（1*1cm）

PET基底石墨烯薄膜（1*1cm）

紫铜基石墨烯薄膜（1*1cm）

铜基石墨烯薄膜（10*10cm）

铜基石墨烯薄膜（5*5cm）

铜基多层石墨烯

石墨烯 铜基单层石墨烯-5cm*10cm

石墨烯 铜基多层石墨烯 5cm*10cm

石墨烯 铜基多层石墨烯10cm*10cm

石墨烯 自支撑三维石墨烯（已去镍）超轻 （1cm*1cm）

石墨烯线 镀石墨烯单晶铜线（每米）

镍基多层石墨烯

石墨烯，镍基多层石墨烯薄膜 （5cm*10cm）

石墨烯 泡沫镍三维石墨烯 CVD石墨烯 （5*10cm）

石墨烯 三维石墨烯 泡沫铜三维石墨烯5cm*10cm

石墨烯 自支撑三维石墨烯（已去镍）超轻 （1cm*1cm）

石墨烯薄膜：

单面生长铜基底石墨烯

“泡-取”式石墨烯

悬空自助转移单层石墨烯

石英基底石墨烯

PET基底石墨烯

蓝宝石基底石墨烯

镍泡沫基底石墨烯

自助转移镍泡沫石墨烯

铜基底石墨烯

氧化硅片基底石墨烯

石墨烯纳米银线复合柔性透明导电膜

以上资料源于西安生物科技有限公司，提供更多CVD-石墨烯的定制化服务产品。