合成方法及 SiO2-QDs荧光凝胶玻璃的制备机理
图1是我们合成SiO2-QDs荧光凝胶玻璃的方法和制备机制的简单示意图。因为我们使用的QDs是疏水性的,要将其和二氧化硅结合并能保持原QDs优良的光学性能,必须先使其表面增加能够和二氧化硅**结合的基团,在这里我们使用的修饰试剂是APS。然而,在实验过程中由于APS 的水解速度快使得APS容易与疏水性QDs表面的原配体进行交换,且反应一段时间开始发生絮凝,造成这种现象的主要原因为疏水性的QDs的表面配体为长碳链的油酸,而APS分子自身的氨基易于与OA进行配位置换,使得疏水性的QDs的表面具有两种配体。随着APS的快速水解,QDs表面的APS 分子间发生缩合,同时溶液中水解的APS 分子不断的和QDs表面的APS 发生反应,使得APS 以二氧化硅的形式在QDs表面沉积,QDs之间由于氢键和缩合反应的原因,开始形成具有一定三维结构的微凝胶,并随着该微凝胶网状结构的增大开始沉淀。然而,在365 nm的紫外灯的激发下,絮凝物的荧光性能仍然较强。这是因为QDs的表面变化较小,即表面原亲油性配体被APS置换数较少,没能对QDs的荧光性能造成较大的影响;同时,APS 的快速水解,使得硅化溶液中的未参与修饰的APS之间发生脱水缩合形成微凝胶,**配位置换的速度。随后,我们使用不同粒径大小的疏水性的 QDs进行了相同的实验,皆有相同的实验结果。
随后,我们将QDs和二氧化硅混合的絮凝物质通过离心使其沉淀,去除硅化溶液中的甲苯溶剂和未参加反应的APS;然后将沉淀物质超声分散在APS试剂中,由于沉淀物质是被APS修饰的QDs和APS的混合物质,故可以将其均匀的分散。然后加入超纯水促进APS 的水解,使得APS分子间发生脱水缩合形成三维网状结构,且在其内部均匀的嵌有QDs,形成新的含有QDs 的微凝胶;随着APS的水解反应的不断进行和溶剂中水和反应副产物的蒸发,溶胶开始老化,形成块状的凝胶材料,如图1所示。
采用这种方法制备含有QDs 的凝胶玻璃其优点如下:一,制备方法简单,时间短暂;二,凝胶玻璃中的每一个QDs皆受到周围二氧化硅的保护;三,可以将该溶胶置于一定材质的模具内,制备不同形状的凝胶材料;四,能够保证原QDs 的优良光学性能。
西安齐岳生物科技有限公司是一家**从事糖产品、科研试剂、多肽、石墨烯、石墨炔(graphyne)发光材料、金属配合物发光材料、光电材料、MAX相陶瓷,碳纳米管、原料药、纳米材料、钙钛矿、脂质体、合成磷脂的研发、定制合成、生产和销售的**高科技生物科技有限公司。
齐岳供应定制产品:
二氧化硅表面修饰硅烷偶联剂APTS
二氧化硅修饰纳米氧化锆陶瓷材料
氨基修饰介孔二氧化硅纳米纤维
丙烯酸修饰SiO2介孔材料
MSN和氨基化修饰二氧化硅(MSN-NH2)
丙烯酸酯单体修饰二氧化硅纳米粒子
碳-碳双键修饰纳米SiO2
甲基修饰二氧化硅膜
聚多巴胺表面修饰纳米二氧化硅
二氧化硅表面单层自组装膜的修饰
笼型聚倍半硅氧烷修饰介孔二氧化硅SiO2(POSS-MPS)
乙烯基修饰的微孔二氧化硅膜
酞菁修饰的磁性二氧化硅纳米管
硅烷偶联剂修饰纳米SiO2改性MF/PVA纤维((KH570-SiO2))
苯基修饰的二氧化硅膜
胺基修饰二氧化硅改性环氧树脂胶粘剂
硅烷修饰二氧化硅微球
二氧化硅修饰石墨烯及其绝缘导热环氧树脂纳米复合材料
3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTS)修饰的二氧化硅
硼修饰纳米二氧化硅交联剂
二氧化硅修饰的亲水性KLaF4
酰肼修饰单分散二氧化硅微球
生物分子修饰的介孔二氧化硅纳米粒子(MSN)
苯基修饰的疏水微孔二氧化硅膜
纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架
赖氨酸修饰的二氧化硅粒子
二氧化硅纳米颗粒修饰平板丝
脯氨酸修饰二氧化硅
聚甲醛/不同表面修饰二氧化硅纳米复合材料
纳米二氧化硅修饰玻纤表面
亲水性聚合物修饰的二氧化硅纳米粒子
壳聚糖修饰二氧化硅载紫杉醇纳米粒
表面修饰碳硼烷的介孔二氧化硅纳米球
导电炭黑修饰二氧化硅气凝胶负载硫复合正极材料
石墨烯氧化物修饰介孔二氧化硅
表面含硅烷修饰的中空二氧化硅微球
硼酸修饰二氧化硅固载型铂催化剂
三联吡啶基团修饰的纳米二氧化硅粒子
Ag@SiO2核壳纳米颗粒
羧基修饰的介孔二氧化硅纳米粒
嵌段共聚物对SiO2溶胶—凝胶过程的修饰
γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH-550)修饰纳米SiO2
载体SiO2表面修饰对钒基催化剂
POSS基聚合物修饰二氧化硅纳米粒子
聚马来酸酐和二氧化硅修饰的水溶性CdSe/ZnS荧光量子点
单链dna核酸适配体修饰二氧化硅/四氧化三铁磁性微球
SiO2微球修饰浸润剂
苯基修饰二氧化硅纳米片纤维
纳米二氧化硅修饰叶蜡石粉体
SiO2修饰的TiO2载体
纳米SiO2修饰玻纤表面
Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的SiO2修饰
磁性纳米二氧化硅表面修饰
纳米二氧化硅修饰碳糊电极
金纳米棒的二氧化硅表面修饰
zl 04.12