FTIR分析

图1为纳米 SiO2改性前后的FTIR。SA-纳米SiO2的红外光谱在2859 ~2 924 cm-1处和1 377 cm-1处出现饱和一CH2和一CH3的C一H基伸缩振动峰;与纳米 SiO2对比,SA-纳米 SiO2在3 445～3 500cm-1处一OH伸缩振动峰相对值变小,说明纳米 SiO2表面有部分一OH与其他官能团反应而被覆盖;而在1 695 cm―'处的一OH伸缩振动峰向低波数方向移动到1 661cm-1处,表明SA的一COOH与纳米SiO2表面的一OH发生反应。SA改性纳米SiO2后将破坏SiO2的链状团聚结构,降低粒子间氢键等作用力,这对促进纳米SiO2粒子在PBT中的分散是有利的。

图1 SA与纳米SiO2和SA-纳米SiO2的FTIR分析

TG分析

图⒉为纳米SiO2改性前后的热失重分析-热失重微分(TGA-DTG)曲线。由图2可以看出,纳米SiO2的更大失重温度在200℃以内,纳米SiO2失重主要归于其表面吸附的微量水分和表面的硅-醇基(Si—OH)。随着温度继续升高到700℃,纳米SiO2有失重但不明显。SA-纳米SiO2在100～450℃出现了3个明显的失重峰,在低温阶段( 100~20o℃)的失重主要源于SA-纳米SiO2表面吸附的微量水分;中温阶段(200～450℃)的失重主要源于SA-纳米 SiO2表面的酯键分解。说明SA确实接枝到纳米 SiO2粒子的表面。

图2纳米SiO2和SA-纳米SiO2的TGA-DTG分析

采用溶液法制备了SA 功能化改性的纳米SiO2粒子。FTIR 和TGA测试表明SA 的—COOH与纳米SiO2表面的一OH 发生反应,在纳米 SiO2表面包覆了SA。

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