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PZT-NI磁电复合薄膜

PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似,即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后,接着进行烘干和热裂解,重复以上步骤得到设计的厚度

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产品介绍

PZT-NI

产品名称:PZT-NI

纯度:98%

包装:mg级和g级

货期: 一周

地址:西安

厂家:西安齐岳生物科技有限公司

PZT-NI

PZT-Ni磁电复合薄膜的制备研究

PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似,即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后,接着进行烘干和热裂解,重复以上步骤得到设计的厚度后,进行终热处理,具体参数见二章。为了后续电学性能测试,需在PZT薄膜表面采用小型离子溅射仪溅射,直径为0.1 mm的Pt电极,其示意图及后续测量关系图如图3.2所示。

 

 

 

参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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