PZT-NI磁电复合薄膜
PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似,即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后,接着进行烘干和热裂解,重复以上步骤得到设计的厚度
货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
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Q-0092929 | 100mg |
1
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Q-0092929 | 250mg |
1
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Q-0092929 | 500mg |
1
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Q-0092929 | 1g |
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Q-0092929 | 5g |
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业务范围:小分子PEG | ADC抗体 | 大环类 | 抑制剂 | 高分子 |
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产品介绍
PZT-NI
产品名称:PZT-NI
纯度:98%
包装:mg级和g级
货期: 一周
地址:西安
厂家:西安齐岳生物科技有限公司
PZT-Ni磁电复合薄膜的制备研究
PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似,即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后,接着进行烘干和热裂解,重复以上步骤得到设计的厚度后,进行终热处理,具体参数见二章。为了后续电学性能测试,需在PZT薄膜表面采用小型离子溅射仪溅射,直径为0.1 mm的Pt电极,其示意图及后续测量关系图如图3.2所示。
参数信息 | |
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外观状态: | 固体或粉末 |
质量指标: | 95%+ |
溶解条件: | 有机溶剂/水 |
CAS号: | N/A |
分子量: | N/A |
储存条件: | -20℃避光保存 |
储存时间: | 1年 |
运输条件: | 室温2周 |
生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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