AZ 1500 紫外光刻胶-薄胶正性光刻胶，广泛应用于半导体制造 -

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AZ 1500 紫外光刻胶-薄胶正性光刻胶，广泛应用于半导体制造

紫外光刻胶-薄胶 g/h/i-Line 0.5-5 1um 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造

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张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

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产品介绍

紫外光刻胶-薄胶

类型	光刻胶型号	适用光谱	厚度范围/um	分辨率	适用工艺
紫外光刻胶-薄胶	S1800系列	g-Line, broad line	0.5-3.5	0.5um	正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺
	AZ5214	g/h/i-Line	1-2um	0.5um	反转胶
	BCI-3511	i-Line	0.5-2	0.5um	正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper
	SPR 955	i-Line	0.5-3.5	0.35um	正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀
	AZ 1500	g/h/i-Line	0.5-5	1um	正性光刻胶，广泛应用于半导体制造

400-6966-012