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产品名称 |
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Q-0101347 |
AR-P 3100 高灵敏度光刻胶.正性光刻胶 |
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Q-0101346 |
正胶 AR-P 1200 正性光刻胶 |
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Q-0101345 |
正胶 AR-P 1200 正性光刻胶 |
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Q-0101344 |
X AR-N 7700/30 SX AR-N 7700/37 化学放大负胶 光刻胶 |
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Q-0101343 |
AR-N 7720 电子束负胶 |
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Q-0101342 |
AR-N 7700 电子束负胶 |
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Q-0101341 |
AR-N 7520 AR-N 7500 电子束负胶 |
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Q-0101340 |
AR-P 6510 光刻胶厚胶 |
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Q-0101339 |
PMMA 电子束光刻胶 |
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Q-0101338 |
AR-P617 PMMA/MA共聚物 电子束光刻胶 |
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Q-0101337 |
电子束光刻胶 (e-beam resist)正胶 SX AR-P 6200 |
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Q-0101336 |
光刻胶增附剂 AR 300-80, HMDS 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 |
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Q-0101335 |
AR 300-12 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 |
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Q-0101334 |
光刻胶稀释剂 AR 600-01…09 PMMA胶 稀释剂 |
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Q-0101333 |
AR 300-70, -72, -73,600-70 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 |
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Q-0101332 |
AR 600-60,-61 电子束光刻胶用 定影液 |
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Q-0101331 |
AR 600-50,-51,-55,-56 PMMA胶用 显影液 |
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Q-0101329 |
AR 300-44,-46,-47, -475 紫外/电子束光刻胶用 显影液 |
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Q-0101328 |
AR 300-26, -35紫外光刻胶用 显影液 |
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Q-0101325 |
SX AR-P 8100.04/1 PPA直写胶 光刻胶 |
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Q-0101323 |
SX AR-N 4810/1 有机溶剂显影光刻胶(用于无水环境),负胶 基于PMMA的负胶 |
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Q-0101321 |
SX AR-P 3500/6 全息曝光用胶,正胶 |
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Q-0101320 |
X AR-P 5800/7 深紫外曝光胶,正胶 |
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Q-0101319 |
SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶,紫外正胶 热稳定性光刻胶,正胶 |
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Q-0101318 |
SX AR-PC 5000/80 聚酰亚胺光刻胶 |
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Q-0101317 |
X AR-P 5900/4 耐碱刻蚀光刻胶,正胶 |
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Q-0101316 |
AR-P 5910 耐HF酸刻蚀光刻胶,正胶 |
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Q-0101315 |
SX AR-PC 5000/40光刻胶 耐酸碱保护胶 |
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Q-0101314 |
AR-PC 500光刻胶 耐酸碱保护胶 |
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Q-0101313 |
AR-BR 5400光刻胶 双层Lift-Off工艺底层胶 |
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Q-0101312 |
导电胶 AR-PC 5090 AR-PC 5091 (光刻胶) |
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Q-0101311 |
特殊工艺用光刻胶 Special manufacture/experimental sample |
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Q-0101310 |
增附剂 AR 300-80, HMDS 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 |
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Q-0101309 |
AR 300-12 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 |
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Q-0101308 |
光刻胶 AR 600-01…09 PMMA胶 稀释剂 |
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Q-0101306 |
AR 300-70, -72, -73,600-70 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 |
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Q-0101305 |
光刻胶定影液AR 600-60,-61 电子束光刻胶用 定影液 |
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Q-0101303 |
AR 600-50,-51,-55,-56 PMMA胶用 显影液 |
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Q-0101302 |
AR 300-44,-46,-47, -475 紫外/电子束光刻胶用 显影液 |
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Q-0101301 |
光刻胶配套试剂 (Process chemicals)显影液 AR 300-26, -35 紫外光刻胶用 |
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Q-0101300 |
lift-off工艺光刻胶AR-P 5350,AR-P 5400,AR-N 4240,AR-N 4340,AR-N 4400 |
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Q-0101297 |
化学放大光刻胶(CAR,Chemical Amplified Resist) |
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Q-0058360 |
TFT-LCD光刻胶 |
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Q-0058356 |
电子束及深紫外光刻胶 |
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Q-0058353 |
薄胶 |
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