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产品名称 |
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Q-0101407 |
mr-P 1200LIL 系列正性光刻胶 干蚀刻掩模 |
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Q-0101406 |
ma-P 1200 系列 / ma-P 1275HV 正性光刻胶 蚀刻掩模、电镀模具 |
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Q-0101404 |
ma-P 1200G 系列 正性光刻胶 蚀刻掩模、电镀模具 |
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Q-0101403 |
mr-EBL 6000 系列负性光刻胶 干蚀刻掩模 |
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Q-0101402 |
mr-EBL 6000 系列负性光刻胶 干蚀刻掩模 |
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Q-0101400 |
EpoCore & EpoClad 系列负性光刻胶 波导 |
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Q-0101399 |
mr-DWL系列负性光刻胶 母带/微光学 |
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Q-0101397 |
ma-N 2400 系列 负性光刻胶 干蚀刻掩模 |
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Q-0101395 |
ma-N 400 系列 负性光刻胶 PVD 和剥离 |
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Q-0101394 |
ma-N 1400 系列负性光刻胶 |
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Q-0101393 |
mr-I 9000M 系列纳米压印抗蚀剂 |
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Q-0101391 |
AZ 1500 紫外光刻胶-薄胶 正性光刻胶,广泛应用于半导体制造 |
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Q-0101390 |
SPR 955紫外光刻胶-薄胶 i-Line 正性i线光刻胶 |
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Q-0101388 |
BCI-3511 紫外光刻胶-薄胶 正性i线光刻胶 |
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Q-0101387 |
AZ5214 反转胶 g/h/i-Line 紫外光刻胶-薄胶 |
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Q-0101385 |
紫外光刻胶-薄胶 S1800系列 g-Line,正性光刻胶 |
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Q-0101383 |
AZ P4620 g/h/i-Line 正性光刻胶 宽带厚胶 |
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Q-0101381 |
NR26-25000P 负性光刻胶 |
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Q-0101379 |
SPR220 正性光刻胶,用于MEMS和Bump工艺 |
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Q-0101378 |
导电SU-8(GCM3060) 宽带厚胶 负性环氧类光刻胶 |
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Q-0101376 |
宽带厚胶 SU-8 10系列 负性环氧类化学放大光刻胶 |
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Q-0101374 |
SU-8 光刻胶 规格(常年现货供应) |
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Q-0101372 |
光固化胶 Ormo系列 g/h/i-Line |
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Q-0101371 |
mr-NIL 6000E,mr-I 9000M,mr-UVCur21纳米压印胶 |
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Q-0101370 |
负性电子束光刻胶EBL 6000系列,ma-N2400系列 |
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Q-0101368 |
电子束光刻胶 PMMA 电子束正胶 |
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Q-0101367 |
电子束光刻胶 Z520 |
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Q-0101365 |
HSQXR-1541-006电子束光刻胶 |
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Q-0101364 |
染色SU-8 g/h/i-Line 负性环氧类化学放大光刻胶; 红色、蓝色、黄色、紫色、绿色、黑色彩色光刻胶 |
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Q-0101363 |
RGB 彩色光刻胶 i-Line |
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Q-0101362 |
彩色光刻胶 EK 580A 黑色负性i-line光刻胶 |
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Q-0101361 |
纳米压印胶 mr-UVCur21 UV固化光刻胶 |
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Q-0101360 |
纳米压印胶 mr-I 9000M 热固化 |
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Q-0101359 |
纳米压印胶 mr-NIL 6000E 热固化和UV固化 |
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Q-0101358 |
光固化胶 Ormo系列 g/h/i-Line |
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Q-0101357 |
SX AR-N 4600-10/3 SX AR-N 4650-10/4 紫外负胶(厚胶) |
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Q-0101356 |
AR-N 4400 厚胶,化学放大胶,可以替代传统的SU8胶 |
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Q-0101355 |
AR-N 4340 化学放大胶 |
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Q-0101354 |
AR-N 4240 紫外、深紫外曝光,可做lift-off工艺。 i线、深紫外曝光 负性光刻胶 |
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Q-0101353 |
AR-N 2200 负性光刻胶 |
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Q-0101352 |
AR-U 4000 图形反转胶 |
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Q-0101351 |
AR-P 5300 Lift-off工艺用胶 |
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Q-0101350 |
AR-P 3740 AR-P 3840 高分辨率光刻胶 |
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Q-0101349 |
AR-P 3500 正性光刻胶 |
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Q-0101348 |
AR-P 3200 正性光刻胶 |
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