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金属溅射靶材的生产工序、种类及应用领域介绍
发布时间:2021-01-18     作者:axc   分享到:

西安齐岳生物科技有限公司主营产品:溅射靶材(金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、氧化物靶材、氟化物靶材、硫化物靶材)、蒸发镀膜材料、基片材料、晶体材料、无机化合物材料、半导体材料、太阳能光伏材料、电子材料、金属粉末、氧化物粉末、贵金属材料、稀土材料、镀膜基片、坩埚等。

齐岳金属溅射靶材生产工序

1、原材料 - 超高纯金属材料铸锭,切断,成分检查、不纯物检查

2、塑性变形材结晶过程 - 塑性加工,热处理,尺寸检查,取向检查

3、焊接 - 焊接强度检查,焊接结合率检查

4、机加

5、检测 - 尺寸检测,成分检测、外观检测

6、清洗、干燥、包装 (包装检查、文件检查)

7、出货

金属溅射靶材溅射原理示意

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齐岳金属溅射靶材种类

1.根据形状可分为方靶,圆靶,异型靶

2.根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

3.根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等

4.根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材


齐岳高纯金属溅射靶材应用领域

1.半导体用金属靶材

半导体芯片用金属溅射靶材的作用,就是给芯片上制作传递信息的金属导线。具体的溅射过程:**利用高速离子流,在高真空条件下分别去轰击不同种类的金属溅射靶材的表面,使各种靶材表面的原子一层一层地沉积在半导体芯片的表面上,然后再通过的特殊加工工艺,将沉积在芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属线,将芯片内部数以亿计的微型晶体管相互连接起来,从而起到传递信号的作用。

2.集成电路产业中高纯金属靶材及其应用

晶圆制造 - 主要金属靶材系列Al、AlSi、AlCu、AlSiCu、W、Ti、WTi等,主要用于铝互联;Cu、CuAl、CuMn、Ta、Ru等,主要用于铜互联;W、Wsi、Ti、Co、NiPt等,主要用于规划无接触;Ti、Ta、TiAl等,主要用于金属栅。

3.溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、**装饰用品等行业。

西安齐岳生物供应的纯金属单质靶材产品目录如下:

产品名元素符号纯度
钒靶材V3N
铁靶材Fe3N, 3N5, 4N
钴靶材Co3N5
银靶材Ag4N
钼靶材Mo3N5
铌靶材Nb3N5
钽靶材Ta3N5, 4N
钨靶材W3N5
镍靶材Ni3N, 3N6, 4N, 4N5, 5N
钛靶材Ti2N7, 4N, 4N5, 5N
铝靶材Al3N5, 4N, 4N6, 5N, 6N
铬靶材Cr2N5,3N5
铜靶材Cu3N5~6N
硅靶材Si3N~5N
铟靶材In4N5
镓靶材Ga5N
锡靶材Sn5N
锆靶材Zr2N7~5N
金靶材Au4N,4N5,5N
锂靶材Li3N
镁靶材Mg3N8,4N,5N
锌靶材Zn4N,4N5,5N
锰靶材Mn3N,3N5,4N
铒靶材Er2N5,3N,3N5
铂靶材Pt3N5,4N,4N5
锗靶材Ge5N
铱靶材Ir3N5
钌靶材Ru3N5
铼靶材Re3N5,4N
锇靶材Os3N,3N5
钯靶材Pd3N5
铑靶材Rh3N5,4N
钙靶材Ca2N5
钪靶材Sc4N,4N5
硒靶材Se4N,5N
锶靶材Sr2N5
钇靶材Y3N,3N5,4N
镉靶材Cd4N
锑靶材Sb4N,5N
碲靶材Te4N5,5N
钡靶材Ba3N
镧靶材La3N,3N5
铈靶材Ce3N5
镨靶材Pr3N5
钕靶材Nd3N5
钐靶材Sm3N5
铕靶材Eu3N5
钆靶材Gd2N,3N,3N5
铽靶材Tb3N5
镝靶材Dy3N5
钬靶材Ho3N,3N5
镱靶材Yb3N5
铪靶材Hf3N,3N5,3N8,4N
铅靶材Pb4N
铋靶材Bi4N,5N

温馨提示:西安齐岳生物提供的所有产品仅用于科研,不能用于人体。



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